C10100 Sauerstofffreies Kupfer- und C10200-Kupferblatt mit hoher Purity sind der Höhepunkt der Reinheit und Leistung in der Kupfermaterialfamilie.
Beide erkennen das endgültige Gleichgewicht der elektrischen Leitfähigkeit, der Verarbeitbarkeit und der Anpassungsfähigkeit der Umwelt durch verschiedene, weit verbreitete Präzisionselektronik, Vakuumgeräte und High-End-Fertigungsfelder.
C10100 Sauerstofffreies Kupfer (OFHC):
Mit mehr als oder gleich 99,99% Kupfergehalt als Kern wird der Sauerstoffgehalt unter weniger als oder gleich 5 ppm und Gesamtverunreinigungen unter 1 {0 ppm durch Vakuumschmelzen und Flächenschmelztechnologie kontrolliert. Seine Leitfähigkeit erreicht 101% -103% IACs nahe der theoretischen Grenze, wodurch es das bevorzugte Material für Hochfrequenzinduktoren, supraleitende Magnete und Vakuumelektronenröhrchen macht. Der Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE) wird bei 16,8 × 10- ⁶/ Grad innerhalb der Temperaturzone von -200 bis 400 Grad stabilisiert. Es verfügt über eine hervorragende Übereinstimmung mit Keramik, Glas und anderen Materialien und ist für die Einkapselung der Mikrowellenvorrichtung in Raumfahrzeugen geeignet. Die Oberflächenrauheit kann zu RA 0,01 & mgr; m verarbeitet werden, was dem Erfordernis der Nanometerspiegelflatheit für die Photolithographie -Maskenplattensubstrat erfüllt.
C10200 deoxidiertes Kupfer (DLP):
Der Sauerstoffgehalt wird auf weniger als {{{0}}. 0 03% durch Phosphor -Dexidationsprozess reduziert, während 0,01% -0. Die Erweidungstemperatur erreicht 350 Grad, ein Anstieg von 50 Grad im Vergleich zu C10100, was es für tiefe Stempelformprozesse wie Wärmetauscherflossen (minimaler Tonhöhe 0,8 mm) und Wabenplatten für architektonische Vorhangwände geeignet ist. In der Meerwasserumwelt bildet das Phosphorelement einen dichten Schutzfilm, und seine Korrosionsbeständigkeit ist dreimal höher als C10100, was es zu einem idealen Material für Opferanoden für Offshore -Plattformen macht.
Kernleistungsvergleich:
Leitfähigkeit: C10100 (101,5% IACs) ist etwas besser als C10200 (100,2% IACs), aber beide sind gegenüber herkömmlichem Kupferviolett (98% IACs) weit überlegen.
Maschinabilität: C10200 -Zugfestigkeit ({220-250 MPA) als C10100 ({200-230 MPA) 10% höher, Delongation (40% -45%) 5% höher, besser für die komplexe Deformationsverarbeitung geeignet.
Schweißbarkeit: C1 0 200 Phosphorgehalt hemmt die Tendenz der Brichtstoffverspräche, Laserschweißporosität kleiner oder gleich 0,5%, besser als C 10100 2%.
Anwendungsszenario:
C10100: Quantum Computing Supercondonding-Hohlraum, Partikelgaspedalwellenleiter, Audioanschlüsse mit hohem Fidelity.
C10200: 5G Basisstation Kühlkörper, bipolare Platte mit Wasserstoffbrennstoffzellen, Wärmeübertragungsrohr des Kernkraftdampfgenerators.
Umweltschutz und Wirtschaft:
Die Recyclingrate von beiden erreicht 99,5% und die Kosten pro Masse der Einheiten sind 70% niedriger als die von Silber-Kupper-Legierung. C10200 reduziert den Verfeinerung des Energieverbrauchs durch Phosphor -Deoxidationsprozess um 20%, und die Kohlenstoffemission ist 15% niedriger als das von C10100, wodurch es ein Benchmark -Material für die grüne Herstellung ist.
Zusammenfassend haben C10100 und C10200 die Anwendungsgrenze von High-End-Kupfermaterialien mit der Dreifaltigkeit von "Ultra-Purity-Extreme Performance-umweltfreundlich" neu definiert, wobei er unauslöser Wert in strategischen Bereichen wie Quantentechnologie, neuer Energie und Tiefsee-Ingenieurwesen und der Kernmaterial für die Förderung der Industrie-Zivilisation zur Evolution der Evision der Evision und Sauberkeit zeigt. Grundmaterial.
