Was ist C11000-Kupfer?
Das elektrolytische Hartpechkupfer C11000 oder ETP-Kupfer wird durch die direkte Umwandlung ausgewählter raffinierter Kathoden und Gussteile unter sorgfältig kontrollierten Bedingungen hergestellt. C11000-Elektrolykupfer verfügt über inhärente Verarbeitungseigenschaften, die es ermöglichen, es leicht zu biegen, zu löten, zu bohren, zu schweißen und so zu formen, dass es nahezu jeder Designspezifikation entspricht.
ETP-Kupfer ist das am häufigsten verwendete Kupfer, da es universell für elektrische Anwendungen einsetzbar ist. C11000 hat eine Mindestleitfähigkeit von 100 % und muss eine Reinheit von 99,9 % haben.
Äquivalente Gütetabelle für C11000-Kupferrohre
| Bezeichnungssystem | Code | Standardreferenz |
|---|---|---|
| UNS-Nummer | C11000 | ASTM B124/B152 |
| Europäischer Standard | CW004A | EN 1412 |
| Japanischer Standard | C1100 | JIS H3100 |
| ISO-Bezeichnung | Cu-ETP | ISO 1634-1 |
Chemische Zusammensetzung (Gew.%)
| Element | Minimum | Maximal | Typisch | Notizen |
|---|---|---|---|---|
| Kupfer + Silber | 99.90 | - | 99.95 | Hauptbestandteil |
| Sauerstoff | 0.015 | 0.040 | 0.025 | 150-400 ppm als Cu₂O |
| Silber | - | 0.030 | 0.015 | Gezählt in Kupfersumme |
| Führen | - | 0.005 | 0.002 | Kontrolle von Verunreinigungen |
| Eisen | - | 0.005 | 0.002 | Kontrolle von Verunreinigungen |
| Zinn | - | 0.002 | <0.001 | Kontrolle von Verunreinigungen |
| Zink | - | 0.002 | <0.001 | Kontrolle von Verunreinigungen |
| Gesamte sonstige Verunreinigungen | - | 0.050 | 0.020 | Ohne Sauerstoff |




Physikalische Eigenschaften bei 20 Grad
| Eigentum | Metrikwert | Imperialer Wert | Testmethode |
|---|---|---|---|
| Elektrische Eigenschaften | |||
| Elektrische Leitfähigkeit | Größer oder gleich 58 MS/m (100 % IACS) | Größer oder gleich 100 % IACS | ASTM E1004 |
| Elektrischer Widerstand | 1,724 µΩ·cm | 6,79 µΩ·Zoll | ASTM B193 |
| Temperaturkoeffizient | 0,00393 / Grad | 0,00218 / Grad F | - |
| Thermische Eigenschaften | |||
| Wärmeleitfähigkeit | 390 W/m·K | 270 BTU·ft/(h·ft²·Grad F) | ASTM E1461 |
| Spezifische Wärmekapazität | 0.385 J/g·K | 0,092 BTU/(lb·Grad F) | - |
| Wärmeausdehnung (20–300 Grad) | 16,5 × 10⁻⁶ / Grad | 9,2 × 10⁻⁶ / Grad F | ASTM E228 |
| Physikalische Konstanten | |||
| Dichte | 8,94 g/cm³ | 0,323 lb/in³ | - |
| Schmelzpunkt | 1.083 Grad | 1.981 Grad F | - |
| Elastizitätsmodul | 117 GPa | 17.000 ksi | ASTM E111 |
| Poissonzahl | 0.34 | 0.34 | - |
Mechanische Eigenschaften
Geglühter Zustand (O60/O61)
| Eigentum | Wertebereich | Typisch | Teststandard |
|---|---|---|---|
| Ultimative Zugfestigkeit | 210-250 MPa | 230 MPa | ASTM E8/E8M |
| 0,2 % Streckgrenze | 70-100 MPa | 85 MPa | ASTM E8/E8M |
| Dehnung (50 mm Stärke) | 45-55% | 50% | ASTM E8/E8M |
| Rockwell-Härte | 45-65 HRB | 55 HRB | ASTM E18 |
FAQ
Welche Kupfersorte ist C1100?
C1100 ist die Bezeichnung des japanischen Industriestandards (JIS), der das direkte Äquivalent des US-amerikanischen C11000 ist. Daher ist C1100 die JIS-Qualität für elektrolytisches Tough-Pitch-Kupfer. Die Spezifikationen sind im Wesentlichen identisch mit denen von C11000, mit der gleichen hohen Reinheit, Leitfähigkeit und den gleichen Eigenschaften.
Welche Reinheit hat C11000-Kupfer?
C11000-Kupfer hat eine Kupferreinheit von mindestens 99,90 %. Die primäre Verunreinigung ist eine kontrollierte Menge Sauerstoff (typischerweise 0,02 % bis 0,04 %), die absichtlich vorhanden ist, um die Gießbarkeit und Bearbeitbarkeit zu verbessern. Die restlichen Spurenelemente sind durch die Spezifikation streng begrenzt.
Was ist das Kupferäquivalent von C11000?
C11000 hat direkte internationale Entsprechungen. Zu den wichtigsten Äquivalenten gehören: CW003A / CW004A (europäische EN-Norm), C1100 (japanische JIS-Norm) und Cu-ETP (allgemeine ISO-Bezeichnung). Bei allen handelt es sich um elektrolytisches Tough-Pitch-Kupfer mit nahezu identischer Zusammensetzung und identischen Eigenschaften.
Ist C11000-Kupfer dasselbe wie C110?
Ja, sie sind gleich. „C110“ ist eine verkürzte umgangssprachliche Form der vollständigen UNS-Bezeichnung „C11000“. In technischen Dokumenten und bei der Beschaffung wird die vollständige Bezeichnung „C11000“ bevorzugt, in alltäglichen Branchengesprächen bezieht sich „C110“ jedoch allgemein auf dieses Material.
Was ist der Unterschied zwischen C11000- und C10100-Kupfer?
Der Hauptunterschied ist der Sauerstoffgehalt und die Reinheit. C11000 (ETP) enthält 0,02-0,04 % Sauerstoff und ist 99,90 % rein. C10100 (OFE - Oxygen-Free Electronic) besteht zu 99,99 % aus reinem Kupfer und enthält praktisch keinen Sauerstoff (<0.0005%). This makes C10100 essential for high-vacuum electronics and applications where hydrogen embrittlement is a risk, while C11000 is the standard for most electrical and thermal uses.
Produktformen, die wir anbieten können
| Produktkategorie | Materialstandards | Gängige Legierungen | Wichtige Spezifikationen (können angepasst werden) |
|---|---|---|---|
| Kupferrohre | ASTM B75, B88, B280, B111; EN 12449, 12451; DIN EN 12735; JIS H3300 | C10100 (OFE), C11000 (ETP), C12200 (DHP), C23000, C70600, C71500 | Außendurchmesser: 3 mm - 300 mm Wandstärke: 0,5 mm - 20 mm Härte: Weich (O), halb{0}}hart (H50), hart (H80) Form: Gerade Längen, Spulen, U-Bögen |
| Kupferbleche / -platten | ASTM B152, B248, B248M; EN 1652; DIN 1787; JIS H3100, H3250 | C10100 (OFE), C11000, C10200 (OF), C26000, C86200 | Dicke: 0,3 mm - 100 mm Breite: Bis zu 1200 mm Länge: Bis zu 3000 mm (oder Spulen) Oberfläche: Mühle, poliert, gebürstet |
| Kupferstäbe/-stangen | ASTM B187, B301, B411; EN 12163, 12164; DIN 17672; JIS H3250 | C10100 (OFE), C11000, C14500, C36000, C63000 | Durchmesser/Rechteck. Größe: 3 mm - 300 mm Form: rund, quadratisch, sechseckig, rechteckig Zustand: Gezogen, extrudiert, warmgewalzt |
| Kupferdrähte | ASTM B1, B2, B3, B258; EN 13601; IEC 60228; JIS H3100 | C10100 (OFE), C11000, C14420, C14500 | Durchmesser: 0,1 mm - 20 mm Härtegrad: Weich, geglüht, hart-Gezogen Form: blank, verzinnt, verseilt, auf Spulen |
| Kupferfolien/-streifen | ASTM B103, B370; EN 1652; DIN 1787; JIS H3100 | C10100 (OFE), C10200, C11000, C19400, C26800 | Dicke: 0,02 mm - 2.0 mm Breite: Bis zu 600 mm Härtegrad: gewalzt, geglüht |
| CNC-Bearbeitungsteile | Gemäß Kundenzeichnung/Anforderung. | Alle gängigen Kupferlegierungen (einschließlich C10100, C11000, C86200 usw.) | Prozess: Drehen, Fräsen, Bohren, Gewindeschneiden Toleranz: ±0,005 mm - ±0,1 mm Nachbearbeitung: Entgraten, Polieren, Plattieren |
Unsere Fabrik




Unsere Produktionsstätte verfügt über eine umfassende und moderne Produktionslinie, die mit modernen Strangguss-, Präzisionswalz-, Hochgeschwindigkeitszieh- und mehrachsigen CNC-Bearbeitungszentren ausgestattet ist und es uns ermöglicht, Kupfer und Kupferlegierungen (wie C10100, C11000, C12200, C71500, C70600 usw.) zu einer vollständigen Produktpalette zu verarbeiten, darunter Rohre, Bleche, Stäbe, Drähte und Folien. Um erstklassige Qualität zu gewährleisten, haben wir ein strenges In-{10}}Prozess- und Endkontrollsystem implementiert, das hochmoderne-Geräte wie Spektrometer zur Materialüberprüfung, digitale Zugprüfgeräte zur Prüfung mechanischer Eigenschaften, Präzisionsmaßmessgeräte und Wirbelstrom- oder Ultraschallprüfgeräte zur Fehlererkennung verwendet. Damit wird gewährleistet, dass jedes Produkt internationale Standards wie ASTM, EN und JIS erfüllt oder übertrifft. sowie spezifische Kundenanforderungen.





