Mar 27, 2025 Eine Nachricht hinterlassen

Desoxidiertes C12000-Kupfer in der High-End-Elektronik – Leitfähigkeit und Zuverlässigkeit

1. Materialprofil

UNS C12000 (chinesisches TP1) ist Phosphor-desoxidiertes Kupfer mit geringem Restphosphorgehalt (DLP): Cu+Ag größer oder gleich 99,90 %, P 0,004-0,012 %. Es vereint hohe Reinheit, gute elektrische und thermische Leitfähigkeit und hervorragende Schweißbarkeit/Formbarkeit – eine ausgewogene Wahl für anspruchsvolle elektronische und industrielle Anwendungen.

 

2. Technische Attribute für die Elektronik

Attribut Wert / Verhalten Technischer Vorteil
Elektrische Leitfähigkeit 85–90 % IACS (geglüht) Geringer Widerstand, stabile Signalübertragung
Wärmeleitfähigkeit Etwa 340 W/(m·K) Reduziert den Temperaturanstieg in Hochstromleitern
Schweißbarkeit / Lötbarkeit Keine Wasserstoffversprödung Zuverlässige Verbindungen in Schweißbaugruppen
Kaltformbarkeit Biegen, Tiefziehen, Bearbeiten Präzisionskomponenten mit engen Toleranzen
Korrosions-/Ermüdungsbeständigkeit Stabil in Serviceumgebungen Langfristige Zuverlässigkeit bei Vibration und Zyklen

 

3. Bewerbungen

Steckverbinder, Anschlüsse und Kontakte für hochzuverlässige-Elektronik;

Stromschienen und Stromverteilungskomponenten (schweißbar, leitfähig);

Schaltungs--Wärmeableitungsmodule-für Leiterplatten und Kühlkörper für Stromversorgungs--Geräte;

Wellenleiter und HF-Komponenten (stabile Leitfähigkeit);

präzisionsgefertigte Hardware für Transport-, Luft- und Raumfahrt- und Industriesysteme.

 

4. Hinweis zur Notenauswahl

Wenn sauerstofffreie Reinheit (99,99 %+, Vakuumbetrieb) angegeben ist, verwenden Sie die OF/OFE-Klassen C10100/C10200. C12000 (DLP) ist die kostengünstige Wahl, wenn desoxidierte Schweißbarkeit und gute Leitfähigkeit erforderlich sind. Standards: ASTM B75 (Rohre), B152 (Blech/Platte), B187 (Stab/Stange); Lieferung mit Mühlenzertifikaten zur Rückverfolgbarkeit.

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