C11000 Kupfer für Ablagerungseinheiten

C11000 Kupfer hat eine Härte von 45 Stunden, ein weiterer wichtiger Parameter seiner mechanischen Eigenschaften. Die Härte bezieht sich auf die Fähigkeit eines Materials, das Kratzen oder Eindringen zu widerstehen, und es ist auch ein wichtiger Indikator für den Verschleißfestigkeit eines Materials. Bei C11000 Kupfer stellt seine mäßige Härte sicher, dass sie während der Verwendung weniger anfällig für Verschleiß und Verformung ist.

Eigenschaften von C11000 Kupfer im Bereich der Ablagerungsgeräte:
Substrate und Ziele: In Prozessen wie physikalische Dampfablagerung (PVD) und chemische Dampfabscheidung (CVD) sind Substrate und Ziele die Kernkomponenten, die die Ablagerung von Dünnfilmen ermöglichen, und C11000 -Kupfer ist die ideale Wahl für die Herstellung dieser Komponenten aufgrund der hervorragenden elektrischen Leitfähigkeit und der niedrigen elektrischen Widerstandseigenschaften, die sich auf die Qualität und Homogen der Qualität und der Homogen der Homogen und der Homogen der Homogen und der Homogen der Homogens ermöglichen.
Heizelemente: Während des Abscheidungsprozesses ist eine präzise Temperaturregelung erforderlich, um die Filmqualität zu gewährleisten, und C11000 -Kupfer wird häufig als Heizelement verwendet, da sich die Temperaturen und eine schnelle und gleichmäßige Wärmeübertragung auf die Ablagerungsfläche und die Verbesserung der Ablagerungseffizienz und -qualität verbessern können.

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